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                                                        戳到痛處 三星半導體戰略陰影籠罩……

                                                        本文由:王迎秋 编辑 2019年07月16日 2:12 篮球快讯0398 ℃

                                                        【浓眉穿3号球衣】

                                                        報道介紹♀?▽,受市場行情發生變化影響∵∟,三星4月份宣布∴♂π,將在2030年之前投入巨額資金用於設備投資和研究開發☆∴◇。但是↑,在最尖端工序中使用的感光材料成為限制對象△⊿,計劃剛提出就遇挫□。韓國的半導體業內人士表示⌒,「三星被戳到痛處」♀。三星原本計劃2019年下半年開始增產使用EUV的大規模集成電路⊙,但現在可能推遲這一計劃π▽。

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                                                        消息人士透露〇♂,在7月13日召開的特別會議中♀∟⊙,李在鎔向公司管理高層告知▽,他已獲得足夠的氟化聚酰亞胺、光阻劑和氟化氫⊙,以避免生產中斷〇。

                                                        參考消息網7月16日報道 境外媒體報道稱↑┊〇,受日本政府對韓國啟動半導體材料出口管制影響┊◇,在半導體行業有觀點認為□∴∴,韓國三星電子的「非存儲器」戰略將受到影響π∴。其原因是◇∴☆,日本限制出口的3類材料之一的「光刻膠(Resist)」可能對三星投產最尖端裝置產生影響∟♀。這關乎三星能否在今後的開發競爭中處於優勢地位⊙﹡。

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                                                        報道稱▽,一台EUV售價約200億日元(1日元約合0.06元人民幣)┊,操作也很複雜π∴↑,但是能夠使更高性能的半導體開發成為可能♂△┊。目前∵?□,能夠在量產線中使用EUV的被認為只有三星和台積電製造┊。

                                                        但是在存儲器市場△,去年秋季之前拉動市場增長的美國IT巨頭面向服務器的投資暫歇π▽♂,今年市場行情出現惡化♀。三星2019年4月至6月的營業利潤(速報值)較上年同期大幅減少56%△。

                                                        據《日本經濟新聞》網站近日報道□⊙,行業團體「韓國半導體產業協會」常務安基鉉就日本加強出口管制的感光材料指出♀,「從光的波長來看☆,被稱為EUV的最尖端曝光裝置用光刻膠成為限制出口的對象」∟◇♂。在此基礎上表示「可能對生產大規模集成電路(LSI)的三星使用EUV的生產線產生影響」⊿。

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                                                        资料图片↑。新华社/法新声明:新浪网独家稿件◇∴,未经授权禁止转载△∟﹡。 -->

                                                        另據台灣鉅亨網7月15日援引韓聯社的報道稱?,三星副會長李在鎔的日本之行☆,已經確保三星可以獲得三項半導體關鍵材料的緊急供應∵,避免可能停產的燃眉之急∵∵。

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                                                        圍繞大規模集成電路↑∵,三星在作為智能手機「大腦」的半導體代工生產等領域與台積電競爭◇,在圖像傳感器領域與索尼競爭∴⌒。全球市場份額在兩成左右◇,均位居第2位〇∴⌒。三星的主營業務是保存手機等數據的存儲器業務?,大規模集成電路在半導體業務營業利潤中所佔比例還不到5%∟。

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